型 號 | 溶液組成與使用條件 | 用途與特點 |
ATHC | 范圍 最佳值 鉻酐（CrO3:99.7%） 150～350g/L 250 g/L 硫酸根(SO42-) 1.5～4.0g/L 2.5 g/L ATHC 10～15ml/L 12 ml/L 溫度 55～70℃ 60℃ 陰極電流密度DK 30～80A/dm2 55 A/dm2 陽極電流密度DA >30A/dm2
| *采用新型無氟催化劑，不腐蝕陽極，電流效率高達26% *鍍層硬度高達HV950～1200，微裂紋為750～1000條/英寸，外觀光亮、結晶細致
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ATHC-21 | 范 圍 最佳值 鉻酐（CrO3:99.7%） 150～350g/L 250 g/L 硫酸根(SO42-) 1.5～4.0g/L 2.5 g/L ATHC 10～15ml/L 12 ml/L 溫度 55～70℃ 60℃ 陰極電流密度DK 30～80A/dm2 55 A/dm2 陽極電流密度DA >30A/dm2 | 采用新型無氟催化劑，不腐蝕陽極，電流效率高達26% 鍍層硬度高達HV950～1200，微裂紋為750～1000條/英寸，外觀光亮、結晶細致 鍍液具有優異的分散能力、覆蓋能力 普通鍍鉻及硼酸鍍鉻液可直接轉化 |
ATHC100 | 范 圍 最佳值 鉻酐（CrO3:99.7%） 150～350g/L 250 g/L 硫酸根(SO42-) 1.5～4.0g/L 2.5 g/L ATHC100 鉻酐∶ATHC100=100∶2.5 溫度 55～70℃ 60℃ 陰極電流密度DK 30～80A/dm2 55 A/dm2 陽極電流密度DA >30A/dm2 | 采用新型無氟催化劑，不腐蝕陽極，電流效率高達26% 鍍層硬度高達HV950～1200，微裂紋為750～1000條/英寸，外觀光亮、結晶細致 鍍液具有優異的分散能力、覆蓋能力 普通鍍鉻及硼酸鍍鉻液可直接轉化 |
